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产品概况
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MMP-3 和 MMP-10 的底物。
Mca-RPKPVE-Nval-WRK(Dnp)-NH2，也称为 Mca-RPKPVE-Nval-WRK(Dnp)-NH2 荧光 MMP 底物，是 MMP-3（基质溶解素 1）和 MMP-10（基质溶解素 2）的优良底物，但不是 MMP-1 或 MMP-2 的底物。Mca-RPKPVE-Nval-WRK(Dnp)-NH2 底物含有高荧光性的 7-甲氧基香豆素 (Mca) 基团，该基团可通过共振能量转移有效地猝灭到 2,4-二硝基苯基 (Dnp) 基团。切割位点是谷氨酸 (Glu) 和正缬氨酸 (Nval) 之间的肽键。 Mca-RPKPVE-Nval-WRK(Dnp)-NH2 也是胰蛋白酶、HGF 激活剂和因子 Xa 的优良底物。
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MMP-3 和 MMP-10 的底物。
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产品特性
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类别荧光标记肽别名Mca-RPKPVE-Nval-WRK(Dnp)-NH2 fluorogenic MMP substrate分子式C78H110N22O20分子量1675.9外观冻干固体纯度高效液相色谱法纯度>95%。溶解度溶于DMSO保存干燥、冷冻并置于阴凉处保存。其他性质序列：Mca-Arg-Pro-Lys-Pro-Val-Glu-Nval-Trp-Arg-Lys(Dnp)-NH2,Mca-RPKPVEXWRK(Dnp)-NH2
修饰：N端为7-甲氧基香豆素(Mca)，X为正缬氨酸，赖氨酸10被2,4-二硝基苯基(Dnp)取代，C端酰胺化*请注意：本产品只能提供给注册的研究和开发机构，且仅可用于体外研究，不得用于人类或动物。
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产品概况
